| 主权项 |
1﹒如下式化合物(l)及其制药容许盐及酯 式中:1为2-4之整数,A及B可相同 或相异且各选自氧或硫,R^'及R^2之 中一为C8─22烷基,C8─22脂族 羧醯基,或如上下式(Ⅱ)基:─CON ─R^3其中,R^3为C8─22烷基, R^5为氢,C1─4烷基,C1─4烷 醯基或芳C1─4烷基,R^1及R^2之 另一为如下式(Ⅲ)基:─E─(CH2 )m─(CH)q─(CH2)n其中, E为单键,二价杂环基或如下式基─C─ ,─C─O─或─C─N─其中,R^6 为氢或亚胺基保护基;m为0或1-3之 整数;n为O或1-10之整数;q为0 或1;R^4为羟基,C1─4烷醯氧基 ;C1─4烷氧基,C7─9芳烷氧基, 胺甲醯氧基,(C1─4烷基)胺甲醯氧 基,(二C1─4烷基)胺甲醯氧基,氢 硫基,C1─4烷硫基,C7─9芳烷硫 基,C1─4烷醯硫基,胺甲醯硫基,( C1─4烷基)胺甲醯硫基,(二C1─ 4烷基)胺甲醯流基:或羧基;Q为如下 式(IV)基:其中R^7及R^8可相同 或相异,各为氢或C1﹒﹒6烷基,或为 单价杂环基;该杂环基有5-14个环原 子,其中1-4为氮及/或氧及/或硫之 杂原子,且至少一个为氮,该杂环基可未 取代或有至少一个取代基(a)及,或取 代苯(b),如下:取代苯(a):氧及 C6─14芳基取代基(b):卤素,羟 基,C1─4烷基,C1─4卤烷基,C 1─4羟烷基,C1─4烷氧基,C1─ 6烷基基,C3─6烯醯基,C7─15 芳族羧醯基,胺甲醯基,C7─15芳烷 基,C2─5烷氧羰基,氰基,胺基,( C1─4烷基)胺基,(二C1─4烷基 )胺醯甲基及硝基,该芳基,乃烷基及芳 烷醯基之芳基部分有6-14个环原子, 而可未取代或有至少一个上述取代基(b )。 2﹒如申请专利范围第1项之化合物(l), 其中R^1及R^2之一为下式(Ⅲ")基 :其中,E,m及n同申请专利范围第1 项所示,Q+为季化杂环基或如下式(Ⅳ ')基:其中R^7,R^8及R^9可以相 同或相异各为氢或C1─6烷基。 3﹒如申请专利范围第1项或第2项之化合物 ,其中该盐类为季形铵盐或酸加成盐,其 中Q为如下式(Ⅳ')基:其中R^7及R ^8及R^9如申请专利范围第1项所示, Z─为补偿制药可接受阴离子或与补偿制 药可接受阴离子共存之季形杂环基。 4﹒如申请专利范围第3项之化合物,其中该 补,偿制药可接受阴离子为卤素,其他矿 酸之阴离子余基,C1─6烷磺醯氧基, 芳磺氧基,或从有机羧或胺基酸衍生物之 阴离子。 5﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中该 其中,1,A及B同申请专利范围第1项 ,R^1a及R^2a之中一为C8─22 烷基,C8─22脂族羧醯基,或如申请 专利范围第1项之(Ⅱ)基,R^1a及 R^2a之另一为(Ⅲ-a)基:-E- (CH)m-CHq-(CH2)n-Q 其中m,n,^q,Q同申请专利范围第 1项,E为单键,二价杂环基或如下式基 :其中,R^5同申请专利范围第1项: R^4a为羟基,C1─4烷醯氧基,C 1─4烷氧基,C7─9芳烷氧基,胺甲 醯氧基,(C1─4烷基)胺甲醯氧基, (=C1─4烷基)胺甲醯氧基,氢硫基 ,C1─4烷硫基,C7─9芳烷硫基, C1─4烷醯硫基,胺甲醯硫基,(C1 ─4烷基)胺甲醯硫基,(=C1─4烷 基)胺甲醯硫基,羧基或(C1─4烷氧 基)羰基该杂基有5-10环原子,其中 1-4为氮及/或硫及/或氧之杂原子, 杂环E为未取代,杂环基Q为未取代或有 至少一个C1─4烷基取代基。 6﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中该 化合物环状醚部分为35构形。 7﹒如申请专利范围第6项之化合物,其中该 合物环状醚部分为(35,2R)构形。 8﹒如申请专利范围第6项之化合物,其中该 合物环状醚部分为(35,25)构形。 9﹒如申请专利范围第1项之化合物及其制药 容许盐,其中,1为2-4之整数;A及 B可相同或相异,各为氧或硫,R^1及 R^2之1为C10─22烷基,C10 -22脂族羧醯基,或如下式(Ⅱa)基 :-CONH-R^3(Ⅱa)其中R^3 为C10─22烷基。R^1及R^2之另 -为下式(Ⅲb)基:-Ea-(CH2 )m-CH-(CH2)n-其中Ea为 单键或如下式基。-C-,-C-O-或 -C-N-其中R^6为氢或亚胺基保护 基;m为O或1-3之整数;n为O或1 -10之整数;R^1为氢,羰基,或( C1-4烷氧羰基Q为下式(Ⅳ)基:其 中R^7及R^8可相同或相异,各为氢或 C1─6烷基,或Q为单价杂环基;该杂 环基有5-7个环原子,其中1-4原子 为氮及/或氧及/或硫杂原子,至少一个 为氮;且Q杂环基为未取代或取代着至少 一个选自C1-4烷基,C1─4羟烷基 ,C1─4烷氧基,卤素,或这种杂环基 与另一环稠合者。 10﹒如申请专利范围第1项之化合物及其制药 容许盐;其中1为2-4之整数;A及B 各选自O及S;R^1或R^2之一为C1 0-22烷基,C10-22脂族羧醯, 或如下式(Ⅱa)之基-CONH-R^ 3(Ⅱa)式中R^3为C10─22烷 基而另-为如下式(Ⅲc)之基-Eb- (CH)-(CH2)n-Q(ⅢC)式 中Eb为-(CH2)m',或二价杂环 基m'为1-3之整数;n为O或1-1 0之整数,q为0或1;R^4c为羟基 ,C1─4烷醯氧基,C1─4烷氧基, C7─9芳烷氧基,胺甲醯氧基,(C1 -4烷基)胺甲醯氧基,(二C1─4烷 苯)胺甲醯氧基,氢硫基,C1──4烷 醯硫基,C1─4烷硫苯,C7─9芳烷 硫基,胺甲醯硫基,(C1─4烷基)胺 甲醯硫基,或(二C1─4烷基)胺甲醯 硫基;Q为如下式(IV)基:式中R^ 7及R^8,可相同或相异,各为选自氢 及C1─6烷基,或Q为-价杂环基,有 5-7个环原子,其中1℃4个为氮且/ 或氧且/或硫杂原子,而至少一个为N, 此杂环基Q可未取代或有至少一个取代基 选自C1─4基,C1-4羟烷基,C1 -4烷氧基,胺甲醯及卤素,或这种杂环 基与另-环稠合。 11﹒如申请专利范围第1项之化合;其中1为 2或3。 12﹒如申请专利范围第11项之化合物,其中 1为3。 13﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中A 为氧或硫且B为氧。 14﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中R ^1为C8─22烷基或如下式(II) 基:-CON-R^3(Ⅱ)其中R^3及 R^5同申请专利范围第1项所示。 15﹒如申请专利范围第14项之化合物,其中 R^1为式(Ⅱ)基。 16﹒如申请专利范围第14或15项之化合物 ,其中R^5为氢或C2─4烷醯基。 17﹒如申请专利范围第14项之化合物,其中 R^3为C13─20烷基。 18﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中n 为1─7之整数。 19﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中Q 为唑基,啶基,基,异基, 或合有选自C1─4烷基之至少一个取代 基之唑基,啶基,基,异基 或咪唑基。 20﹒如申请专利范围第19项之化合物,其中 Q为唑基;啶基或啶基。 21﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中E 为异唑二基或唑二基。 22﹒如申请专利范围第21项之化合物,其中 E为3,5-异唑二基。 23﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中R ^2为下式(Ⅲ)基,27﹒如申请专利 范围第26项之化合物,其中R^5为氢 或2─4烷醯基。 28﹒如申请专利范围第26项之化合物,其中 R^2中如下式基-E-(CH2)m- (CH)q-其中,E,Q,R^4,m ,n及q同申请专利范围第1项。 24﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中R ^2内如下式基-E-(CH2)m-( CH)q-乃如下式基:-C-N-或- CH2-C[其中R^4及R^5同申请专 利范围第1项)或唑二基。 25﹒如申请专利范围第24项之化合物,其中 R^5为氢或乙醯基。 26﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中: R^1为如下式(Ⅱ)基:-CON-R ^3(Ⅲ)其中R^3及R^5同申请专利 范围第1项,R^2为如下式(Ⅲ)基; -E(CH2)m-(CH)q-(CH 2)n其中E,m,nq,R^4及Q同 申请专利范围第1项为如下式基:-C- H-或-CH2-CH其中R^5同申请 专利范围第1项,或异唑二基。 29﹒如申请专利范围第28项之化合物,其中 R^5为氢或乙醯基。 30﹒如申请专利范围第1项之化合物,其为3 -{6-乙氧羰基-6-[(3-十七基 胺甲醯氧基四氢喃-2-基)甲氧羰胺 基]己基}唑盐。─'31﹒如申请专 利范围第1项之化合物,其为dl-3- {8-乙氧羰基-6-[(3-十七基胺 甲醯氧基四氢喃-2-基)甲氧羰胺基 )己基}唑盐。 32﹒如申请专利范围第1项之化合物,其为3 -{5-[(3-十七基胺甲醯氧基四氢 喃-2-基)甲氧羰胺基]成基}唑 盐。 33﹒如申请专利范围第1项之化合物,其为d l-﹒3-{5-[(-3-反十七基胺 甲醯氧基四氢喃-2-基)甲氧羰胺基 ]戊基]唑盐。 34﹒如申请专利范围第1项之化合物,其为1 -乙基-2-{N-乙醯-N-[3-( N-十七基胺甲醯氧基)四氢喃-2- 基甲氧羰基]胺甲基}啶盐。 35﹒如申请专利范围第1项之化合物,基为d l-1-乙基-2-{N-乙醯-N-[ 反-3-(N-十七基胺甲醯氧基)四氢 喃-2-基甲氧羰基]胺甲基}啶 盐。 36﹒如申请专利范围第1项之化合物,其为3 -{7-乙醯氧基-8-[93-十七基 胺甲醯氧基四氢喃-2-基)甲氧基] 辛基}唑盐。 37﹒如申请专利范围第1项之化合物,其为1 -乙基-2-基-2-{N-乙醯-N- [3-(N-乙醯-N-十七基胺甲醯硫 基)四氢喃-2-基甲氧羰基]胺甲基 }啶盐。 38﹒如申请专利范围第1项之化合物,其为d l-1-乙基-2-{N-乙醯-N-[ 顺-3-N-乙醯-N-十七基胺甲醯硫 基)四氢喃-2──基甲氧羰基]胺甲 基}啶盐。 39﹒如申请专利范围第1项之化合物,其为1 -乙基-2-{N-[3-9N-乙醯- N-十乙基胺甲醯硫基0四氢喃-2( e)R^1为-Y,R^ii为-B-R^ 1x';(f)R^i为-Y;,R^11 为-B-R^10;(g)R^i为-A- R^10,R^ii为-B-H(h)R^ i为-A-H,R^ii为-B-R^10 -基甲氧羰基街胺甲基}啶盐。(i )R^i为醚氧原子及位间之双键, R^ii为-Y;其中;A及B同前述; R^1x为C8─22烷基,C8─22 脂族羧醯基或下式(II)基;-CON ─R^340﹒如申请专利范围第1项之 化合物,其为dl-1-乙基-2-{N -[顺-3-(N-乙醯-N-十七基胺 甲醯硫基)西氢喃-2-基甲氧羰基] 胺甲基}啶盐。 41﹒如申请专利范围第1项之化合物,其为3 -{4-[3-(3-十七基胺甲醯氧基 四氢喃-2-基)甲氧基-5-异唑 基]丁基}啶盐。 42﹒如申请专利范围第1项之化合物,其为d 1-3─{4-[3-(反-3-十七基 胺甲醯氧基四氢喃-2-基)甲氧基- 5-异唑基]丁基}啶盐。其中R ^3及R^5同前;R^1x'为c8─22 烷基,R^10为羟基保护基或氢硫基保 护基;Y为卤素;]或式(c)化合物, 其中任何活性基均以被保护;在(a)或 (g)时与如下式(VI)化合物Y-( CH2)m-(CH)q─(CH2)n -Q'(VI)43﹒一种制药组成物, 用以治疗发炎或休克,内含PAF拮抗剂 ,配合制药容许载体或稀释剂,其PAE 中拮抗剂为至少一种前述申请专利范围第 1项之化合物。 44﹒制造如申请专利范围1项化合物之方法, 包含:(i)令如下式化合物(D):或 如下式(VⅡ)化合物HE-Ef-(C H1)m-(CH)q-(CH2)n- Q'(Ⅶ)或如下式(XIx)化合物( 其中:(a)R^i为-A-R^1x,R ^ii为-B-H(b)R^i为-A-R ^1x'R^ii为-Y;(c)R^i为- A-R^10,R^ii为-Y;(d)R ^i为-A-H,R^ii为-B-R^1 x或下式(XX)化合物反应或连续与式 (XXII)化合物及式(XXIV)化 合物反应或连续与式(XXⅡ)化合物及 式(XXX)化合物反应在(b)或(c )时:与式(xI)化合物反应在((d )或(h)时:与同上述式(VI)化合 物,或式(Ⅶ')化合物,或式(XD( )化合物,或式(XX)化合物,或连续 与式(XXII)化合物及式(XXIV )或式XXX化合物反应;在(e)或( f)时:与式(XI)化合物反应及在( g)时:续继与丙烯基卤及氧化剂反应或 与环氧卤丙烷反应,再与式M─(CH) (n─1)1)─Q'反应,在(i)时 :与式(IX)化合物反应后,予以氢硼 化及将羟基予以烷化,醯化或胺甲醯化; [其中,R^4为同于R^4规定之任何基 ,但必要时,将任何活性基加以保护;E f'为合5-14取原子之杂环基,同前 E。Q"为─O─R^11,其中R^11 为羟基保护基;Q"为周前述Y之基,或 前述Q中任一杂环基,W为反应性羧酸之 余基,低脂族醯氧基或芳族醯氧基;Y" 为离基;M为金属原子];(ii)若步 骤(i)之产物必含式Q'之基,将该基 转变成式Q"基;(iii)任意令步骤 (i)或(ii)之产物进行一种或多种 不计顺序之下列反应;胺化,保护,去保 护,盐化,酯化。 |
