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发明名称 HEATING METHOD FOR SEMICONDUCTOR FILM ON INSULATING SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH01235232(A) 申请公布日期 1989.09.20
申请号 JP19880061169 申请日期 1988.03.15
申请人 SEIKO EPSON CORP 发明人 IWAMATSU SEIICHI
分类号 H01L21/20;H01L21/26;H01L21/324 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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