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<p>Dispositif de répartition des faisceaux lasers utilisés dans un processus de séparation isotopique. Les faisceaux lasers S1, Sn, n entier au moins égal à 2 utilisés dans le processus sont divisés au moyen de miroirs partiellement réfléchissants (20, 21, 25, 26) et superposés par des miroirs dichroïques (22a, 22b, 32a, 42a, 42b, 52a) appropriés. Les faisceaux superposés sont envoyés sur plusieurs passages dans une enceinte (10) de réaction. Lorsque l'un des faisceaux a sa fluence qui égale la fluence à saturation, une nouvelle partie de ce faisceau est superposée aux faisceaux grâce a un miroir dichroïque adapté. Les interférences entre cette nouvelle partie et le faisceau résiduel ayant traversé l'enceinte (10) sont évitées. Application à la séparation isotopique de vapeur d'uranium par faisceaux lasers.</p> |
