发明名称 半导体记忆装置
摘要 目的在于提供可增大读出时之判断容许度的半导体记忆装置。半导体记忆装置包含:挟持共用源极线3配置之第1记忆格及第2记忆格所构成的记忆格阵列;及比较格对(第1,第2比较格对);及读出电路。比较格,系与记忆格藉同样制程形成。读出电路具比较格选择电路俾选择比较格之任一方,于记忆格读出时,比较格选择电路选择该记忆格对应之比较格。设多数比较格对将比较格并接亦可。此情况下,依比较格对之个数来调整感测放大器所包含电流镜电路之电晶体之尺寸。亦适用于藉从斜方向植入离子形成汲极,源极领域之记忆体。
申请公布号 TW392163 申请公布日期 2000.06.01
申请号 TW087104304 申请日期 1998.03.23
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 大轮义仁
分类号 G11C16/06;H01L27/115 主分类号 G11C16/06
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种半导体记忆装置,系包含有: 属任意行之记忆格构成之第1格群,及属该任意行 之正前或正后之任一行之记忆格构成之第2格群系 以挟持各格群共用之记忆格用源极线而配置,属同 一列之上述第1格群之记忆格及上述第2格群之记 忆格系形成记忆格对,而且上述第1及第2格群之各 记忆格之源极领域系分别连接于上述记忆格用源 极线,而成的记忆格阵列; 第1,第2比较格系挟持各比较格共用之比较格用源 极线而配置,上述第1,第2比较格中之一方系与上述 第1格群之记忆格同一方向,另一方系与上述第2格 群之记忆格为同一方向,而且上述第1,第2比较格之 源极领域分别连接上述比较格用源极线,而成的至 少1个比较格对;及 进行对上述记忆格阵列之物理位址所对应记忆格 之读出的读出电路;其特征为: 上述各记忆格及第1,第2比较格,系形成为其各个构 成要素藉由同样制程形成于共用基板之分裂(split) 闸极型构造; 上述读出电路包含有比较选择电路俾选择构成上 述比较格对之上述第1,第2比较格中之任一方; 上述比较格选择电路,于记忆格读出时,系从上述 第1,第2比较格之中选择与待读出之记忆格方向为 同一方向之比较格。2.一种半导体记忆装置,系包 含有: 属任意行之记忆格构成之第1格群,及属该任意行 之正前或正后之任一行之记忆格构成之第2格群系 以挟持各格群共用之记忆格用源极线而配置,属同 一列之上述第1格群之记忆格及上述第2格群之记 忆格系形成记忆格对,而且上述第1及第2格群之各 记忆格之源极领域系分别连接于上述记忆格用源 极线,而成的记忆格阵列; 第1,第2比较格系挟持各比较格共用之比较格用源 极线而配置,上述第1,第2比较格中之一方系与上述 第1格群之记忆格同一方向,另一方系与上述第2格 群之记忆格为同一方向,而且上述第1,第2比较格之 源极领域分别连接上述比较格用源极线,而成的至 少1个比较格对;及 进行对上述记忆格阵列之物理位址所对应记忆格 之读出的读出电路;其特征为: 上述各记忆格及第1,第2比较格,系形成为其各个构 成要素藉由同样制程形成于共用基板之构造; 上述读出电路包含有比较选择电路俾选择构成上 述比较格对之上述第1,第2比较格中之任一方; 上述比较格选择电路,于记忆格读出时,系从上述 第1,第2比较格之中选择与待读出之记忆格方向为 同一方向之比较格。3.如申请专利范围第2项之半 导体记忆装置,其中 上述记忆格及第1,第2比较格之源极领域及汲极领 域,系藉从斜方向植入杂质离子而形成。4.如申请 专利范围第1项之半导体记忆装置,其中 上述比较格选择电路,系依待读出记忆格之物理位 址之LSB来进行上述比较格之选择。5.如申请专利 范围第2或3项之半导体记忆装置,其中 上述比较格选择电路,系依待读出记忆格之物理位 址之LSB来进行上述比较格之选择。6.如申请专利 范围第1项之半导体记忆装置,其中 包含多数比较格对, 上述多数比较格对所包含之第1比较格之汲极领域 被连接之同时,多数比较格对所包含第2比较格之 汲极领域被连接。7.如申请专利范围第2或3项之半 导体记忆装置,其中 包含多数比较格对, 上述多数比较格对所包含之第1比较格之汲极领域 被连接之同时,多数比较格对所包含第2比较格之 汲极领域被连接。8.如申请专利范围第6项之半导 体记忆装置,其中上述读出电路包含有: 将流经读出记忆格之第1电流转换为第2电流的第1 感测放大器; 将流经上述比较格对之第3电流转换为第4电流的 第2感测放大器;及 用于比较来自上述第1感测放大器之第2电流与来 自上述第2感测放大器之第4电流的比较器; 上述第1电流与第2电流间之第1电流比,及上述第3 电流与第4电流间之第2电流比之至少一方,系调整 为依上述比较格对之个数之値。9.如申请专利范 围第7项之半导体记忆装置,其中 上述读出电路包含有: 将流经读出记忆格之第1电流转换为第2电流的第1 感测放大器; 将流经上述比较格对之第3电流转换为第4电流的 第2感测放大器;及 用于比较来自上述第1感测放大器之第2电流与来 自上述第2感测放大器之第4电流的比较器; 上述第1电流与第2电流间之第1电流比,及上述第3 电流与第4电流间之第2电流比之至少一方,系调整 为依上述比较格对之个数之値。10.如申请专利范 围第8项之半导体记忆装置,其中 上述第1感测放大器包含有第1电流镜电路,上述第2 感测放大器包含有第2电流镜电路; 构成上述第1,第2电流镜电路之电晶体尺寸,系调整 为依上述比较格对之个数之値。11.如申请专利范 围第9项之半导体记忆装置,其中 上述第1感测放大器包含有第1电流镜电路,上述第2 感测放大器包含有第2电流镜电路; 构成上述第1,第2电流镜电路之电晶体尺寸,系调整 为依上述比较格对之个数之値。图式简单说明: 第一图:本发明之半导体记忆装置之一实施形态, 以快闪记忆体为例之部分图。 第二图:第一图之记忆格对与比较格对之侧面说明 图。 第三图:第一图之记忆格对与比较格对之平面说明 图。 第四图A:于记忆格之浮动闸极未储存电子(消去状 态)时之本实施形态中之比较信号与读出信号间之 关系图,第四图B为第九图之快闪记忆格中之比较 信号与读出信号间之关系图。 第五图A:于记忆格之浮动闸极储存有电子(写入状 态)时之本实施形态中之比较信号与读出信号间之 关系图,第五图B为第九图之快闪记忆格中之比较 信号与读出信号间之关系图。 第六图:设多数比较格对之例之快闪记忆体之部分 图。 第七图:读出电路之详细例之图。 第八图:快闪记忆体以外之本发明适用例之说明图 。 第九图:快闪记忆体之背景技术说明图。 第十图:第九图之记忆格对之侧面说明图。 第十一图A:于通常之记忆格阵列,于消去状态进行 读出时之奇数行与偶数行之记忆格之汲极电流Id 之大小表示图,第十一图B为,于写入状态进行记忆 格阵列读出时之奇数行与偶数行之记忆格之汲极 电流Id之大小表示图。
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