发明名称 COMPOSITIONS AND PROCESSES FOR DEPOSITING CARBON-DOPED SILICON-CONTAINING FILMS
摘要 본원에는 탄소-도핑된 규소 함유 막을 증착시키기 위한 조성물로서, RSi(NRR)H(여기서, x=1, 2, 3)의 화학식을 갖는 오가노아미노알킬실란; RSi(OR)H(여기서, x=1, 2, 3)의 화학식을 갖는 오가노알콕시알킬실란; RN(SiR(NRR)H)의 화학식을 갖는 오가노아미노실란; RN(SiRLH)의 화학식을 갖는 오가노아미노실란, 및 이들의 조합물로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 화합물을 포함하는 제 1 전구체; 및 임의적으로 화학식 Si(NRR)H을 갖는 화합물을 포함하는 제 2 전구체를 포함하는 조성물이 기술된다. 또한, 본원에는 사이클릭 화학적 기상 증착(CCVD), 원자층 증착(ALD), 플라즈마 강화 ALD(PEALD), 및 플라즈마 강화 CCVD(PECCVD)로부터 선택된, 본 조성물을 사용하여 탄소-도핑된 규소-함유 막을 증착시키는 방법이 기술된다.
申请公布号 KR20160093093(A) 申请公布日期 2016.08.05
申请号 KR20167020402 申请日期 2012.06.01
申请人 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC. 发明人 XIAO MANCHAO;LEI XINJIAN;PEARLSTEIN RONALD MARTIN;CHANDRA HARIPIN;KARWACKI EUGENE JOSEPH;HAN BING;O'NEILL MARK LEONARD
分类号 C23C16/30;C09D5/00;C23C16/34;C23C16/40;C23C16/455 主分类号 C23C16/30
代理机构 代理人
主权项
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