| 摘要 |
Un procédé et un appareil servent à nettoyer et a sécher des plaquettes semi-conductrices gaufrées. Les plaquettes peuvent être stockées dans un environnement humide jusqu'à l'étape de nettoyage puis être isolées du reste de l'appareil et de l'environnement de travail, après séchage, afin d'éviter ou d'au moins éliminer sensiblement la recontamination de la surface de la plaquette. Les plaquettes sont retirées une à une d'un bain de stockage d'arrivée, transportées jusqu'à une station de nettoyage où elles sont nettoyées, puis jusqu'à une station de séchage. Une fois séchées, les plaquettes sont amenées à une station de sortie où elles sont introduites dans une enceinte portative qui isole sensiblement les plaquettes qu'elle contient d'une contamination ultérieure. En outre, un dispositif introduit de l'air pur dans la station de séchage et la fait circuler, au moins en partie, à travers la station de nettoyage, tout en excluant des entrées d'air dans l'enceinte de la station de sortie. La plaquette nettoyée est sensiblement isolée pendant les étapes de nettoyage et de séchage des partie moins propres de l'appareil, en évitant ainsi la recontamination des plaquettes nettoyées et séchées. |
