发明名称 | 双极晶体管 | ||
摘要 | 本发明的双极晶体管具有以下构成:P型半导体衬底、在衬底的表面层部分区域上形成的N+型内埋层、覆盖衬底的整个表面并埋置内埋层的N型外延层、包围内埋层并从外延层的表面贯通至衬底的P+型隔离区、被隔离区包围而分隔成岛状的外延层所构成的N型集电区、在集电区的表面层部分区域上形成的P型基区、在基区的表面层部分区域上形成的N+型发身区和在除基区以外的整个集电区表菌层上形成的N+区域。 | ||
申请公布号 | CN1003334B | 申请公布日期 | 1989.02.15 |
申请号 | CN86100558.9 | 申请日期 | 1986.04.16 |
申请人 | 三洋电机株式会社 | 发明人 | 田端辉夫 |
分类号 | H01L29/72 | 主分类号 | H01L29/72 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 马连富;许新根 |
主权项 | 1.一种双极晶体管,它包括,第1导电型的半导体衬底、在上述衬底的表面层部分区域上形成的第2导电型的高浓度内埋层、覆盖上述衬底的整个表面并埋置上述内埋层的第2导电型的外延层、包围上述内埋层并从上述外延层的表面贯通至衬底的第1导电型的高浓度隔离区、被上述隔离区包围而分隔成岛状的并由上述外延层构成的第2导电型的集电区、在上述集电区的表面层部分区域上形成的第1导电型的基区和在上述基区的表面层部分区域上形成的第2导电型的高浓度发射区,在上述集电区的表面层上同上述基区和上述隔离区双方接界的第2导电型的高浓度的第1区域,其特征是通过抑制发生在上述基区和第1区的PN结和上述隔离区和第1区的PN结上的耗尽层幅度,从而使上述基区和上述隔离区的间隔距离缩小。 | ||
地址 | 日本大阪府守口市京阪本通2丁目18番地 |