发明名称 双极晶体管
摘要 本发明的双极晶体管具有以下构成:P型半导体衬底、在衬底的表面层部分区域上形成的N+型内埋层、覆盖衬底的整个表面并埋置内埋层的N型外延层、包围内埋层并从外延层的表面贯通至衬底的P+型隔离区、被隔离区包围而分隔成岛状的外延层所构成的N型集电区、在集电区的表面层部分区域上形成的P型基区、在基区的表面层部分区域上形成的N+型发身区和在除基区以外的整个集电区表菌层上形成的N+区域。
申请公布号 CN1003334B 申请公布日期 1989.02.15
申请号 CN86100558.9 申请日期 1986.04.16
申请人 三洋电机株式会社 发明人 田端辉夫
分类号 H01L29/72 主分类号 H01L29/72
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人 马连富;许新根
主权项 1.一种双极晶体管,它包括,第1导电型的半导体衬底、在上述衬底的表面层部分区域上形成的第2导电型的高浓度内埋层、覆盖上述衬底的整个表面并埋置上述内埋层的第2导电型的外延层、包围上述内埋层并从上述外延层的表面贯通至衬底的第1导电型的高浓度隔离区、被上述隔离区包围而分隔成岛状的并由上述外延层构成的第2导电型的集电区、在上述集电区的表面层部分区域上形成的第1导电型的基区和在上述基区的表面层部分区域上形成的第2导电型的高浓度发射区,在上述集电区的表面层上同上述基区和上述隔离区双方接界的第2导电型的高浓度的第1区域,其特征是通过抑制发生在上述基区和第1区的PN结和上述隔离区和第1区的PN结上的耗尽层幅度,从而使上述基区和上述隔离区的间隔距离缩小。
地址 日本大阪府守口市京阪本通2丁目18番地