摘要 |
Procédé de dépôt en phase gazeuse par procédé chimique de matériaux contenant du tellure, tel que du tellurure de cadmium et du tellurure de cadmium mercure, dans lequel la source réactive du tellure est un tellurofène ou un méthyltellurole. Ces sources réactives présentent des pressions de vapeur élevées, et les vapeurs émises par les sources réactives présentent des températures de décomposition inférieures à environ 300°C, de sorte que le dépôt peut être effectué à des basses températures de l'ordre de 250°C. La vapeur de source réactive contenant du tellure est mélangée avec une vapeur de source réactive contenant une autre substance devant être déposée en même temps, telle que du diméthylcadmium ou du diméthylmercure, puis mise en contact avec un substrat maintenu à la température de dépôt, le dépôt s'effectuant de préférence dans un réacteur vertical inversé (10) de dépôt en phase gazeuse par procédé chimique. |