发明名称 | 一种掺金硅热敏电阻器及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明属于半导体温度传感器领域。本发明采用氯化金涂层扩散,当金和本底净杂质浓度之比为1~1.5时,形成稳定性好,B值为4000K~6000K,其均匀度优于0.1%的掺金硅热敏材料,利用该材料的双面高阻层做成串联式热敏电阻,经机械调值后,元件在-30~+50℃温区阻值互换精度为0.2%。高温(85℃)存放一年的稳定性优于0.3%。本发明可广泛地应用于工业、农业,尤其是医学、生物工程、化学等多方面的温度测量与控制。 | ||
申请公布号 | CN85102901B | 申请公布日期 | 1988.03.02 |
申请号 | CN85102901 | 申请日期 | 1985.04.01 |
申请人 | 中国科学院新疆物理研究所 | 发明人 | 陶国强;陶明德 |
分类号 | H01C7/04 | 主分类号 | H01C7/04 |
代理机构 | 中国科学院新疆专利事务所 | 代理人 | 王蔚 |
主权项 | 1.N型单晶硅中掺金形成敏感体,在敏感体上化学镀镍形成欧姆接触,在镍层上焊接镀银铜线作引出线,并用环氧树脂包封的掺金硅热敏电阻器,其特征在于,敏感体是在N型单晶硅的两面扩散金构成高阻层掺金N型单晶硅片。 | ||
地址 | 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市二宫新疆物理研究所 |