发明名称 一种用于对准第一和第二物体相关位置的方法及实现该方法的装置
摘要 根据本发明对准第一和第二物体的方法,第一和第二物体面对面地安置,对准是在垂直于面对面方向上进行的。第一物体上制有光栅图形,第二物体上制有方格棋盘形光栅图形。从对准用光源发出的光束射在第二物体的方格棋盘形光栅图形上。被其衍射的光束被引向第一物体的光栅图形上。由此再被衍射的光束被检测器检测。从而测得第一和第二物体的相对位置,而与它们的间距无关。依照检测结果,第一和第二物体被精确地对准。本发明可被用作对准掩膜和硅片的方法。
申请公布号 CN87100831A 申请公布日期 1987.12.09
申请号 CN87100831 申请日期 1987.02.14
申请人 株式会社东芝;东京光学机械株式会社 发明人 田畑光雄;东条徹;下∴裕明
分类号 G03F9/00;G03F9/02;H01L21/00 主分类号 G03F9/00
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人 杜日新
主权项 1、一种对准第一物体与第二物体的相关位置的方法,这两个物体是面对面地安置,对准是在与它们相对面的(法线)方向相垂直的方向上进行的,其特征为包括下列步骤:在上述第一物体上制作一光栅图形作为对准标记;在上述第二物体上制作一方格棋盘形的光栅图形作为对准标记;使光源发出的光束直射到上述第二物体的上述方格棋盘形光栅图形上;把在上述方格棋盘形光栅图形处发生衍射的衍射光束传输到上述第一物体的上述光栅图形上;检测透射过上述第一物体的光栅图形时产生的衍射光束;以及按照被检测的衍射光的强度来调整上述第一和第二物体的相关位置。
地址 日本神奈川县