FIXTURE FOR SPACE APPARATUS,申请号JP19850242880-传众专利搜索

首页产品黄页商标征信

会员服务注册登录

法人/股东/高管

发明名称	FIXTURE FOR SPACE APPARATUS
摘要
申请公布号	JPS62103300(A)	申请公布日期	1987.05.13
申请号	JP19850242880	申请日期	1985.10.31
申请人	NISSAN MOTOR CO LTD	发明人	KUMAKIRI YASUO
分类号	B64G1/64	主分类号	B64G1/64
代理机构		代理人
主权项
地址

您可能感兴趣的专利

晶片堆叠结构之洗净方法及洗净设备;CLEANING METHOD OF CHIP STACKED STRUCTURE AND CLEANING APPARATUS

纠偏装置及等离子设备

用于对基底进行图案化的系统与方法;SYSTEM AND METHOD FOR PATTERNING SUBSTRATE

整合式多极电极结构之电子发射体装置;ELECTRON EMITTER DEVICE WITH INTEGRATED MULTI-POLE ELECTRODE STRUCTURE

气体鼓风装置;GAS BLOWER

单晶钻石的制造方法;PRODUCTION METHOD OF SINGLE CRYSTALLINE DIAMOND

镀钨电解质及形成含钨镀层方法;ELECTROLYTE FOR ELECTRODEPOSITING TUNGSTEN AND METHOD FOR FORMING TUNGSTEN-CONTAINING LAYER

卧式电镀装置

电解加工装置及其加工方法;APPARATUS AND METHOD OF ELECTROCHEMICAL MACHINING

金属基体表面处理方法;SURFACE TREATING METHOD FOR METAL HOUSING

夹具及具备该夹具的保持器

利用化学气相沉积法在矽基板上制备镍薄膜以及在矽基板上制备矽化镍薄膜的方法;METHOD OF MANUFACTURING NICKEL THIN FILM ON SI SUBSTRATE BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING NI SILICIDE THIN FILM ON SI SUBSTRATE

背板一体型之金属制溅镀靶及其制造方法

最适大豆基因座（一）;OPTIMAL SOYBEAN LOCI

红外线吸收性平凸印刷墨

光压印用硬化性组成物、图案形成方法、微细图案、及半导体装置的制造方法;PHOTO-CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINT, METHOD FOR FORMING PATTERN, FINE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

多烯－多硫醇系组成物;POLYENE-POLYTHIOL COMPOSITION

可固化的聚矽氧组合物、其固化产品及光学半导体装置;CURABLE SILICONE COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, AND OPTICAL SEMICONDUCTOR DEVICE

纤维强化树脂及其制造方法以及成形品

低介电树脂组合物，应用其的半固化胶片、铜箔基板及电路板