| 发明名称 |
METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICES BY ION IMPLANTATION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US3615875(A) |
申请公布日期 |
1971.10.26 |
| 申请号 |
USD3615875 |
申请日期 |
1969.09.29 |
| 申请人 |
HITACHI LTD. |
发明人 |
TODAHISA MORITA;TAKASHI TOKUYAMA;TAKASHI TSUCHIMOTO;TAKAO MIYAZAKI;SHIGERU NISHIMATSU;TAKAHIDE IKEDA;HISUMI SANO;MASATADA HORIUCHI |
| 分类号 |
H01L21/00;H01L21/265;H01L29/00;H01L29/73;(IPC1-7):H01L7/54 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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