帽盖之结构改良

摘要

一种帽盖之结构改良，该帽盖系具有一板体，该板体一面凸设有一嵌合部，该嵌合部一面凸设有一具外侧导引面之凸出部，该板体一面于嵌合部外围处凸设有多数个卡钩，该板体、嵌合部及凸出部的内部形成一凹室，该凹室内壁对应于嵌合部及凸出部的位置分别凸设具有内侧导引斜面之导引块，内外斜度同时具导正功能；藉此，可利用于自动化生产流程，使纱锭自动化包装能顺利进行，且该帽盖可以很容易嵌在隔板上，若隔板破损，帽盖仍可再回收使用，且帽盖有卡钩设计，使帽盖易于固定在隔板上不会脱落。

主权项

1.一种帽盖之结构改良,该帽盖系具有一板体,该板 体一面凸设有一嵌合部,该嵌合部一面凸设有一凸 出部,该凸出部上形成圆锥状之外侧导引面,该板 体一面于嵌合部外围处凸设有卡钩,该板体、嵌合 部及凸出部的内部形成一凹室,该凹室内壁对应于 嵌合部及凸出部的位置系分别凸设有内侧导引面 及定位块,该内侧导引斜面及外侧导引面内外斜度 同时具导正功能。2.如申请专利范围第1项所述之 帽盖之结构改良,其中卡钩系呈倒「L」型。3.如申 请专利范围第1项所述之帽盖之结构改良,其中板 体系呈圆盘形。4.如申请专利范围第1项所述之帽 盖之结构改良,其中嵌合部的外径较小于板体的外 径,凸出部的外径较小于嵌合部的外径。5.如申请 专利范围第1项所述之帽盖之结构改良,其中凹室 内壁之定位块系设有多数个,并位于同水平高度。 图式简单说明: 第一图系本创作帽盖之立体图。 第二图系本创作帽盖之剖面图。 第三图系本创作帽盖与隔板结合之立体图。 第四图系本创作帽盖与上层纱锭分解状态之剖面 图。 第五图系本创作帽盖与下层纱锭分解状态之剖面 图。 第六图系本创作帽盖与隔板及上、下层纱锭分解 状态之剖面图。 第七图系本创作帽盖与隔板及上、下层纱锭组合 状态之剖面图。