利用光阻模板遮罩的倍频方法

摘要

本案说明一种利用光阻模板遮罩之微影制程倍频方法。首先提供一元件层，在该元件层上形成有一光阻层；该光阻层经过图案化以形成一光阻模板遮罩。一间隙壁形成材料层沉积于该光阻模板遮罩上，该间隙壁形成材料层经过蚀刻以形成一间隙壁遮罩并暴露出该光阻模板遮罩。接着移除该光阻模板遮罩，最后将该间隙壁遮罩的图案转移至该元件层。