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发明名称 PROCEDIMENTO DI DEPOSIZIONE DI VAPORI DI H3 PO4 E DI FORMAZIONE DI UN SOTTILE STRATO DI FOSFORO SU SUBSTRATI SI SILICIO
摘要
申请公布号 IT1142150(B) 申请公布日期 1986.10.08
申请号 IT19810025705 申请日期 1981.12.18
申请人 SOLAREX CORP 发明人 KOVAL TIMOTHY D.
分类号 C30B31/02;H01L21/316;(IPC1-7):H01L/ 主分类号 C30B31/02
代理机构 代理人
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