Process for forming titane structures with precise dimensions.

摘要

Bei der Herstellung, von maßhaltigen Titanstrukturen im 0,05 bis 1,0 µm-Schichtdickenbereich unter Verwendung einer aus Fotolack bestehenden Maskierung wird dem Flußsäure-Salpetersäure-Ätzgemisch ein Metallionen-Komplexbildner, vorzugsweise Chelatoren auf der Basis von Titriplex (Firma Merck) zugesetzt. Durch diesen Zusatz werden die beim Ätzen entstehenden Titanionen, die einen Fluorkomplex bilden, laufend aus dem Ätzsystem entfernt; es entstehen gerade Ätzkanten. Das Verfahren wird bevorzugt verwendet bei der Herstellung von Titanelektroden für Sensorelemente.