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发明名称 Verfahren zur Herstellung von Fotoresist-Reliefstrukturen mit UEberhangcharakter
摘要
申请公布号 DE3427556(C1) 申请公布日期 1986.01.02
申请号 DE19843427556 申请日期 1984.07.26
申请人 MERCK PATENT GMBH, 6100 DARMSTADT, DE 发明人 THIEL, KLAUS P., 6101 BRENSBACH, DE;SINDLINGER, RAIMUND, 6105 OBER-RAMSTADT, DE;MERREM, HANS JOACHIM, DIPL.-CHEM. DR., 6104 SEEHEIM, DE
分类号 G03F7/20;G03F7/32;(IPC1-7):G03F7/00;G03F7/08 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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