ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE FILM, MASK BLANK PROVIDED WITH ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND COMPOUND

摘要

감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물은, 극성 변환기를 갖는 가교제, 및 알칼리 가용성 수지를 함유하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물로서, 상기 극성 변환기가, 알칼리성 수용액의 작용에 의하여 분해되어, 가교기를 갖는 측에 카복실산 또는 설폰산을 발생하는 기이다.