| 摘要 |
<p>Ein Röntgenlithographiegerät, bestehend aus einer Röntgenröhre zur Erzeugung einer langwelligen Röntgenstrahlung, die eine aus Glühkathode und Gitter bestehende Elektronenkanone, eine Elektronenstrahlablenk- und -bündelungsvorrichtung, ein Target aus einem Material hoher Ordnungszahl und hohen Schmelzpunktes aufweist, aus einem Träger für das mit Röntgenstrahlen zu belichtende Substrat sowie aus einem Träger für die Lithographiemaske, wird für die industrielle Anwendung zur Erzielung ausreichender Intensitäten bei kurzen Belichtungszeiten dadurch arbeitsfähig, daß eine Elektronenkanone, bei der das Gitter auf seiner dem Target zugewandten Seite einen nach innen gerichteten Flansch aufweist, der die Öffnung, in der sich die Spitze der Glühkathode berfindet, umschließt, bei der die der Glühkathode zugewandte Seite des Flansches eben ist oder in Richtung auf die Glühkathode abgewinkelt ist, bei der die dem Target zugewandte Seite des Flansches unter einem Winkel β von 100° bis 140° in Richtung auf die Spitze der Glühkathode zu verläuft, und bei der sich das Material des Flansches in Richtung auf den die zentrische Öffnung begrenzenden Rand unter einem Winkel α von 15 bis 60 verjüngt, in der Röntgenröhre verwendet wird, daß der Brennfleck auf dem Target einen Durchmesser von weniger als 10<-><4>m aufweist, daß der Abstand zwischen dem Target und dem Röntgenstrahlenaustrittsfenster der Röntgenröhre maximal 2.10<->²m beträgt, und daß der Abstand zwischen Target und Lithographiemaske maximal 2.10<->¹m beträgt.</p> |
