| 摘要 |
Des films solides sont déposés, ou des poudres fines sont formées en dissolvant un matériau solide dans une solution de fluide surcritique à une pression élevée puis en effectuant la dilatation rapide de la solution au travers d'un petit d'orifice dans une région de pression relativement basse. Ceci produit une atomisation moléculaire qui est dirigée contre un substrat pour déposer un film mince solide, ou alors elle est déchargée dans une chambre de récupération pour récupérer une poudre fine. Lors de la dilatation et de l'altération supersonique avec des gaz de fond dans la région de basse pression, tout amas de solvant est décomposé et le solvant est vaporisé puis extrait par pompage. On fait varier la concentration du soluté dans la solution essentiellement en variant la pression de la solution pour déterminer, en même temps que le débit, la vitesse de dépôt et pour contrôler si un film ou une poudre a été produite ainsi que leur granularité. L'agglomération de solvant et la nucléation de soluté sont contrôlées en manipulant la vitesse de dilatation de la solution et la pression de la région de faible pression. Les températures de la solution et de la région de faible pression sont également régulées. |
