发明名称 |
Compositions photocurable in the presence of sensitizers, and their use. |
摘要 |
Unter Lichteinwirkung vernetzbare neue Stoffgemische, enthaltend A) ein aliphatisch ungesättigtes Polvmerisationsprodukt, das frei von aromatischen Gruppen ist und gegebenenfalls Strukturelemente der Formel I <IMAGE> aufweist, B) ein Bisimid der Formel II <IMAGE> und einem Sensibilisator sowie gegebenenfalls ein weiteres Vernetzungsmittel wobei R, R', R1, Y, Y' und R4 die im Patentansptuch 1 angegebene Bedeutung haben, eignen sich u.a. zur Herstellung von Druckplatten oder als Photoresistmaterialien.
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申请公布号 |
EP0113313(A1) |
申请公布日期 |
1984.07.11 |
申请号 |
EP19830810501 |
申请日期 |
1983.10.31 |
申请人 |
CIBA-GEIGY AG |
发明人 |
BERGER, JOSEPH, DR.;LOHSE, FRIEDRICH, PROF. DR. |
分类号 |
C08F2/00;C08F2/46;C08F2/48;C08F20/52;C08F22/40;C08F279/00;C08F279/02;C08F290/00;C08F291/00;C08F299/00;G03F7/038;(IPC1-7):G03F7/10 |
主分类号 |
C08F2/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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