发明名称 Compositions photocurable in the presence of sensitizers, and their use.
摘要 Unter Lichteinwirkung vernetzbare neue Stoffgemische, enthaltend A) ein aliphatisch ungesättigtes Polvmerisationsprodukt, das frei von aromatischen Gruppen ist und gegebenenfalls Strukturelemente der Formel I <IMAGE> aufweist, B) ein Bisimid der Formel II <IMAGE> und einem Sensibilisator sowie gegebenenfalls ein weiteres Vernetzungsmittel wobei R, R', R1, Y, Y' und R4 die im Patentansptuch 1 angegebene Bedeutung haben, eignen sich u.a. zur Herstellung von Druckplatten oder als Photoresistmaterialien.
申请公布号 EP0113313(A1) 申请公布日期 1984.07.11
申请号 EP19830810501 申请日期 1983.10.31
申请人 CIBA-GEIGY AG 发明人 BERGER, JOSEPH, DR.;LOHSE, FRIEDRICH, PROF. DR.
分类号 C08F2/00;C08F2/46;C08F2/48;C08F20/52;C08F22/40;C08F279/00;C08F279/02;C08F290/00;C08F291/00;C08F299/00;G03F7/038;(IPC1-7):G03F7/10 主分类号 C08F2/00
代理机构 代理人
主权项
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