ELECTRON BEAM-OPTICAL HYBRID LITHOGRAPHIC RESIST PROCESS.

摘要

Procédé lithographique hybride à rayon électronique/optique intra-niveau. Un substrat est préparé en appliquant un activeur d'adhésion compatible aussi bien avec le traitement par rayon électronique qu'avec le traitement optique. On applique à la surface du substrat soumise à l'action de l'activeur d'adhésion un matériau de protection positif. Un motif fin (10) est obtenu dans le matériau de protection en écrivant au moyen d'un rayon électronique de manière à laisser un motif fin de matériau de protection non exposé. De larges zones (12) du matériau de protection sont exposées optiquement tout en protégeant le motif fin à l'aide d'un masque optiquement opaque. Les parties exposées au rayon électronique (10) et optiquement (12) sont enlevées au cours d'une étape de développement de manière à laisser un motif géométrique fin de matériau de protection adhérant à la surface du substrat.