| 发明名称 |
Plasma etching apparatus and method including end point detection. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0086816(A4) |
申请公布日期 |
1984.01.12 |
| 申请号 |
EP19820902662 |
申请日期 |
1982.08.02 |
| 申请人 |
NCR CORPORATION |
发明人 |
COE, MARY ELLEN BURROUGHS |
| 分类号 |
H01L21/302;H01J37/32;(IPC1-7):B44C1/22;C03C15/00;C03C25/06;C23F1/00;C23F1/02;H01L21/306;H01L21/312 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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