发明名称 RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING COPOLYMER THAT HAS TRIAZINE RING AND SULFUR ATOM IN MAIN CHAIN
摘要 [과제] 신규한 레지스트 하층막 형성 조성물을 제공한다. [해결수단] 하기 식(1)로 표시되는 구조단위 및 하기 식(2)로 표시되는 구조단위를 갖는 공중합체, 가교성 화합물, 가교촉매 그리고 용제를 포함하는, 레지스트 하층막 형성 조성물.(식 중, A는 트리아진환을 포함하는 2가의 유기기를 나타내고, X은 -S-기 또는 -O-기를 나타내고, Q는 탄소원자수 1 내지 15의 직쇄상, 분지쇄상 또는 환상의 탄화수소기를 나타내고, 이 탄화수소기는, 주쇄에 황원자 또는 산소원자를 적어도 1개 가질 수도 있고, 치환기로서 하이드록시기를 적어도 1개 가질 수도 있고, n은 0 또는 1을 나타내고, R및 R는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌기 또는 단결합을 나타내고, Z는 황원자 또는 산소원자를 적어도 1개 갖는 2가의 기를 나타내고, X이 -O-기를 나타내는 경우, Z는 황원자를 적어도 1개 갖는 2가의 기를 나타낸다.)
申请公布号 KR20160102175(A) 申请公布日期 2016.08.29
申请号 KR20167015405 申请日期 2014.12.10
申请人 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. 发明人 OGATA HIROTO;KISHIOKA TAKAHIRO;HIROI YOSHIOMI;OHASHI TOMOYA;USUI YUKI
分类号 G03F7/09;G03F7/004;G03F7/11 主分类号 G03F7/09
代理机构 代理人
主权项
地址