摘要 |
[과제] 신규한 레지스트 하층막 형성 조성물을 제공한다. [해결수단] 하기 식(1)로 표시되는 구조단위 및 하기 식(2)로 표시되는 구조단위를 갖는 공중합체, 가교성 화합물, 가교촉매 그리고 용제를 포함하는, 레지스트 하층막 형성 조성물.(식 중, A는 트리아진환을 포함하는 2가의 유기기를 나타내고, X은 -S-기 또는 -O-기를 나타내고, Q는 탄소원자수 1 내지 15의 직쇄상, 분지쇄상 또는 환상의 탄화수소기를 나타내고, 이 탄화수소기는, 주쇄에 황원자 또는 산소원자를 적어도 1개 가질 수도 있고, 치환기로서 하이드록시기를 적어도 1개 가질 수도 있고, n은 0 또는 1을 나타내고, R및 R는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌기 또는 단결합을 나타내고, Z는 황원자 또는 산소원자를 적어도 1개 갖는 2가의 기를 나타내고, X이 -O-기를 나타내는 경우, Z는 황원자를 적어도 1개 갖는 2가의 기를 나타낸다.) |