Electron beam engraving method and apparatus for carrying it out.

摘要

Zur Gravur unterschiedlicher Näpfchengeometrien wird bei der Druckformherstellung mit Elektronenstrahlen der Abbildungsmaßstab der Elektronenquelle auf der Druckformoberfläche tonwertabhängig moduliert. Die Leistungsdichteverteilung im Wirkpunkt des Elektronenstrahls kann dann für alle Tonwerte annähernd rechteckförmig sein. Insbesondere die bislang kritische Gravur der kleinen Näpfchen ist damit stabil.