| 发明名称 |
METHOD FOR THE SELECTIVE DETECTION OF DEFECTS, CAUSED BY POLISHING, ON THE SURFACE OF SILICON WAFERS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0012861(B1) |
申请公布日期 |
1983.03.09 |
| 申请号 |
EP19790104722 |
申请日期 |
1979.11.27 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
SHIH, KWANG KUO |
| 分类号 |
B41J2/135;G01N21/88;H01L21/304;H01L21/306;(IPC1-7):01N21/88;01N1/32;01N1/28 |
主分类号 |
B41J2/135 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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