发明名称 Process and developer composition for the development of exposed negative-working diazonium salt layers.
摘要 Die Erfindung betrifft ein Entwicklergemisch zum Entwickeln von belichteten lichtempfindlichen Reproduktionsschichten, die ein Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukt enthalten. Das Gemisch ist auf der Basis von Wasser, einem Salz einer Alkansäure und einem Tensid aufgebaut und enthält 0,5 bis 15 Gew.-%, insbesondere 1 bis 10 Gew.-%, mindestens eines Salzes einer Alkansäure mit 8 bis 13 C-Atomen und 0,5 bis 20 Gew.-%, insbesondere 1 bis 12 Gew.-%, mindestens eines schwachschäumenden, nichtionogenen Tensids. Zu diesen Tensiden zählen bevorzugt gegebenenfalls modifizierte Blockpolymerisate aus Ethylen- und Propylenoxid. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Entwickeln von negativ arbeitenden Reproduktionsschichten der oben angegebenen Zusammensetzung mit dem erfindungsgemässen Entwicklergemisch.
申请公布号 EP0056138(A1) 申请公布日期 1982.07.21
申请号 EP19810110581 申请日期 1981.12.18
申请人 HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 SPRINTSCHNIK, GERHARD, DR.
分类号 G03C5/18;G03F7/32;(IPC1-7):G03C5/34;G03F7/08 主分类号 G03C5/18
代理机构 代理人
主权项
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