发明名称 POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
摘要 [과제] 매우 고감도이고, 투명성이 높고, 포스트베이크시에 넓은 베이크온도범위에서 형상의 변화가 작은 경화막을 형성할 수 있는 포지티브형 감광성 수지 조성물을 제공하는 것에 있다. [해결수단] 하기 (A)성분, (B)성분, (C)성분, (D)성분, 및 (E)용제를 함유하는 포지티브형 감광성 수지 조성물. (A)알칼리 가용성 아크릴 중합체, (B)성분: 1,2-퀴논디아지드 화합물, (C)성분: 이소시아누레이트 골격과 2개 이상의 중합성 불포화 이중결합을 갖는 화합물, (D)성분: 알콕시메틸기 및 하이드록시메틸기로부터 선택되는 치환기를 2개 이상 갖는 가교성 화합물, (E)용제.
申请公布号 KR20160074528(A) 申请公布日期 2016.06.28
申请号 KR20167012139 申请日期 2014.10.20
申请人 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. 发明人 TAKEDA KAYO;HATTORI HAYATO;HATANAKA TADASHI
分类号 G03F7/039;G02F1/1333;G03F7/004;G03F7/022;G03F7/023;G03F7/20;H01L27/32 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
地址