| 摘要 |
1. Защитное устройство, содержащее первый паттерн элементов и второй, наложенный на него паттерн элементов, пространственно разделенные прозрачным слоем и совместно препятствующие прохождению света через устройство к рассматривающему его в степени, изменяющейся в зависимости от позиции рассматривания, при этом указанные первый и второй паттерны сконфигурированы так, что первая область устройства способна обеспечить максимальную скорость изменения степени перекрывания при изменении угла наклона в случае наклона устройства относительно рассматривающего вокруг первой оси наклона, а вторая область устройства - в случае наклона устройства относительно рассматривающего вокруг второй оси наклона, непараллельной первой оси наклона.2. Защитное устройство, содержащее первый паттерн элементов и второй, наложенный на него паттерн элементов, пространственно разделенные прозрачным слоем и совместно препятствующие прохождению света через устройство к рассматривающему его в степени, изменяющейся в зависимости от позиции рассматривания, при этом указанные первый и второй паттерны сконфигурированы так, чтобы задать по меньшей мере три области устройства, составляющие первую группу областей, и каждая из указанных областей способна демонстрировать максимальное перекрывание при рассматривании по меньшей мере из одной позиции для наблюдения максимального перекрывания (позиции для максимума) и минимальную степень перекрывания при рассматривании по меньшей мере из одной позиции для наблюдения минимального перекрывания (позиции для минимума), при этом по меньшей мере одна позиция для максимума и по меньшей мере одна |
