发明名称 |
UN PROCEDIMIENTO PARA CONFECCIONAR UNA IMAGEN FOTORRESISTEN-TE |
摘要 |
<p>PROCEDIMIENTO DE OBTENCION DE UNA IMAGEN FOTORRESISTENTE. CONSISTE EN APLICAR SOBRE UN SUSTRATO A BASE DE COBRE O DE ALEACION DE COBRE UNA CAPA FOTORRESISTENTE Y FOTOPOLIMERIBLE; EN LAS ZONAS NO EXPUESTAS SE LAVA CON UNA SOLUCION DE REVELADOR ACUOSA Y ALCALINA. LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO SE TRATA DURANTE EL REVELADO O DESPUES CON UNA SOLUCION QUE CONTIENE UN ACIDO SULFONICO ALIFATICO HIDROSOLUBLE O BIEN UNA SAL HIDROSOLUBLE DE TAL ACIDO CON 8 A 30 ATOMOS DE CARBONO. EL ACIDO SULFONICO O LA SAL DEL ACIDO SULFONICO SE AGREGA A LA SOLUCION DE REVELADOR. LA SUPERFICIE SE TRATA CON UNA SOLUCION QUE CONTIENE ADICIONALMENTE UN ACIDO MINERAL O UN ACIDO CARBOXILICO HIDROSOLUBLE. I</p> |
申请公布号 |
ES8105401(A1) |
申请公布日期 |
1981.08.16 |
申请号 |
ES19620004860 |
申请日期 |
1979.11.16 |
申请人 |
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
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分类号 |
C23G1/00;C23G1/10;C25D5/34;G03C5/00;G03F7/42;(IPC1-7):23G1/10;23G1/24;05K3/22;25D5/34 |
主分类号 |
C23G1/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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