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<p>Procedimiento para la obtención de revestimientos reductores de la adhesión sobre sustratos delgados, caracterizado porque comprende las etapas de: (a) hacer reaccionar un clorometilpolimetilsiloxano de fórmula ClCH2(CH3)2SiO[Si(CH3)CH2Cl O]n Si(CH3)2CH2Cl Donde n tiene un valor entre 2 y 200, con cantidades como máximo equivalentes de una amina primaria, cuya parte orgánica se compone de un resto alquilo o bien alquenilo con 4 hasta 18 átomos de carbono, o de un resto cicloalquilo, en presencia de un aceptor de protones; para obtener un disilamorfolinsiloxano; (b) combinar de 0,5 a 10 partes en peso del compuesto obtenido en (a), en presencia de un disolvente, con (A) 100 partes en peso de un alfa, omega-dihidroxipolimetilsiloxano con una viscosidad entre 10 5 y 5.10 7 cP a 20ºC, (B) 1 hasta 20 partes en peso de un poliorganosiloxano bloqueado terminalmente con grupos trimetilsiloxi, conteniendo hidrógeno enlazado por Si, con 10 hasta 40 unidades de CH3Si(H)O y (C) 1 a 20 partes en peso deun carboxilato de metal pesado o carboxilato dialquil estánico; (c) aplicar la mezcla resultante sobre el sustrato; y (d) endurecer el revestimiento por calentamiento a una temperatura relativamente alta.</p> |
