发明名称 DEFECT ELIMINATION METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 JPS54125966(A) 申请公布日期 1979.09.29
申请号 JP19780033074 申请日期 1978.03.24
申请人 HITACHI LTD 发明人 INABA KEIZOU;OKA YOSHIHIDE;SHIMIZU SHIYUUICHI
分类号 H01L21/324 主分类号 H01L21/324
代理机构 代理人
主权项
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