| 主权项 |
1.一立方角回射物件,于其一侧边上带有立方角回射元件之阵列,该元件之三个侧反射面系由平行V-型凹槽之三个交叉配置所形成,其特征为至少一个配置系以重复式样包括至少二个彼此不同之槽边角,于是其立方角回射元件之阵列疲分成重复副阵列,每个副阵列系包括呈多个差别形状之多个立方角回射元件,而此差别形状系回射入射光呈差别形状之光式样。2.根据申请专利范围第1项之回射物件,其中至少两个Ⅴ-型槽之配置系以重复式样包括至少二个此不同之槽边角。3.根据申请专利范围第1项之回射物件,其中全部三个Ⅴ-型槽之配置系以重复式样包括至少二个彼此不同之槽边角。4.根据申请专利范围第1,2或3项之回射物件,其中所述之至少一个凹槽配置系以重复式样包括至少两个不同槽边,角其与经由彼等槽边角所定义之立方角回射元件之所有二面角所须供正交之角不同。5.根据申请专利范围第1,2或3项之回射物件,其中所述至少一个配置之几乎所有呈重复式样之槽边角,系与经由彼等槽边角所定义之立方角回射元件之所有二面角所须供正交之角不同。6.根据申请专利范围第1,2或3项之回射物件,其中元件阵列之立方角回射元件系排列成元件对,以致每个差别形状之元件系由从第一个元件旋转180度而得之相似形状元件所配对。7.根据申请专利范围第1,2或3项之回射物件,其中至少一个配置之式样系包括a- b - - b - a 式样,其中" a "与" b"各为一个不同槽边角。8.根据申请专利范围第1,2或3项之回射物件,其中Nu<C,此处NU系在一副列内之不同立方角回射元件的可能数量,其由下列方程式来加以决定;NU-2(mno/p),其中m,n及o为在三个各别凹槽配置中呈重复式样之凹槽数目,且F为最大单一整数因数,其可被均等加分成每各别之数目m, n 及 o ,又c为可能之组合数系以下列方程式加以计算获得:c=2(mno)。9.根据申请专利范围第1,2或3之回射物件,其显示一至少25%之设计效率因数,此外设计效率因数为:(2)(m+n+o)(100)/NU,m,n及o为在三个各别凹槽配置中呈重复式样之凹槽数目,Nu=2(mno/F),此外F为最大单一整数因数,其可被均等地分成每个各别之数目m,n及o。10.根据申请专利范围第 1 , 2 或 3 之回射物件,其中该等槽边角被加以选定,俾形成立方角回射元件,以便能集中较其他区域更多的反射光线进入回射物件之发散外形的固定区域中。11.根据申请专利范围第 1 , 2或 3项之回射物件,自该物件以图9中所示之外形回射 o" 入射光线。12.根据申请专利范围第 1 , 2 或 3项之回射物件,其系呈一种交通管制标志之形成,其中在副阵列内不同立方角回射元件回射入射光所成不同光式样之总和,产生一整体的回射发散外形,其比从一物件中该阵列之所有立方角回射元件皆为相同者所产生之回射发散外形,更密切地合乎对于该标志所期望之观测外形。13.根据申请专利范围第 1 , 2 或 3项之回射物件,其系由工具加工制成,该工具系由包含一捆各别销钉之平面藉挖沟槽而制得,由各销钉形成之平面部份系为至少如各别副阵列面积一样大小之面积,且在完成挖沟槽作业后旋转至少一些销钉,然后再组合一起。14.根据申请专利范围第 1, 2 或 3项之回射物件,其中至少一些立方角回射元件之光学轴系向该元件之一边缘倾斜,以增加该物件之入射斜度。15.根据申请专利范围第 1 , 2或3 项之回射物件,其中差别形式光式样之总和产生一整体回射光式样,其比从一物件中该阵列之所有立方角回射元件皆为相同者所产生之回射光式样,具有效大的旋转对称性。16.根据申请专利范围第 1 , 2 或 3项之回射物件,其中在至少一个凹槽配置中之至少一个槽边角系超过,且在同凹槽配置中之至少一个其他槽边角系小于,与经由彼等槽边所定义元件之其他面产生正交交叉之角。 |
