| 摘要 |
<p><P>L'INVENTION SE RAPPORTE AUX SILICONES.</P><P>ELLE CONCERNE LA FORMATION D'UN REVETEMENT ANTI-ADHERENT SUR UN SUBSTRAT SOLIDE PAR APPLICATION SUR CE DERNIER D'UNE COMPOSITION DURCISSABLE PAR DES RADIATIONS COMPRENANT UN FLUIDE POLYDIORGANOSILOXANE MERCAPTOALKYLE BLOQUE TERMINALEMENT PAR DES GROUPES TRIORGANOSILOXANES ET, EVENTUELLEMENT, UN PHOTOSENSIBILISATEUR, PUIS L'EXPOSITION DU SUBSTRAT REVETU DE LA COMPOSITION A DES RAYONS ENERGETIQUES TELS QUE DES RAYONS UV POUR DURCIR LADITE COMPOSITION.</P><P>APPLICATION NOTAMMENT A LA FORMATION DE REVETEMENT SUR PAPIER FACILITANT LE DETACHEMENT D'ADHESIFS AGRESSIFS.</P></p> |
