| 主权项 |
1.一种微影装置,包含:一照明系统,其配置以提供一辐射光束;一支撑结构,其配置以固定一图案化元件,该图案化元件配置以于该光束之截面赋予该光束一图案;一基板台,其配置以固定一基板;一投影系统,其配置以将该图案化之光束投射于该基板之一目标区上;及一液体供应系统,其配置以将一浸液提供至一在该基板与该投影系统之间之空间,该液体供应系统包含一障壁构件,该障壁构件沿该空间之边界的至少一部分延伸,且位于一相对于该基板台上之一物件之位置,因此在该障壁构件与该物件之间之该浸液所产生之任何毛细管压力,均不足以将该浸液限制于该空间中,其中在该障壁构件与该物件之间未提供密封物。2.如请求项1之装置,进一步包含至少一出口,以移除浸液,该至少一出口在该障壁构件之径向外部。3.如请求项2之装置,其中该至少一出口系在该基板台上。4.如请求项2之装置,其中该至少一出口系悬于该基板台之上方。5.如请求项1之装置,其中该物件包含该基板,且在该障壁构件与该基板之间的一距离至少为50m。6.如请求项4之装置,其中该物件包含该基板,且在该障壁构件与该基板之间的一距离为大体上100m、150m或300m之一。7.如请求项1之装置,其中该障壁构件与该投影系统机械隔离。8.如请求项1之装置,其中该障壁构件连接至一支撑该基板台之底架与一支撑该投影系统之投影系统架至少之一。9.如请求项1之装置,其中该障壁构件可在该投影系统之一光轴方向上自由移动。10.如请求项1之装置,进一步包含一致动器,该致动器配置以调整该障壁构件相对于该物件之高度及倾斜度至少之一。11.如请求项1之装置,其中该物件包含:该基板、一感应器及一挡板至少之一。12.如请求项1之装置,其中该障壁构件包含至少一入口,以将该浸液供应至该空间。13.一种元件制造方法,包含:将一浸液提供至一在一基板台上之一基板与一投影系统之间之空间,一障壁构件沿该空间之边界的至少一部分延伸;藉由定位该障壁构件及该基板台上之一物件至少之一,使得该障壁构件与该物件之间的该浸液所产生之任何毛细管压力,不足以将该浸液限制于该空间中,以允许该浸液在该障壁构件与该物件之间泄漏;及使用该投影系统将一图案化之辐射光束投射于该基板之一目标区上。14.如请求项13之元件制造方法,包含经由定位在该障壁构件之径向外部之至少一出口移除浸液。15.如请求项14之元件制造方法,其中该至少一出口被定位于该基板台上。16.如请求项13之元件制造方法,其中该物件包含该基板,且在该障壁构件与该基板之间的一距离至少为50m。17.如请求项13之元件制造方法,其中该障壁构件与该投影系统机械隔离。18.如请求项13之元件制造方法,包含以该投影系统之一光轴方向移动该障壁构件。19.如请求项13之元件制造方法,其中该物件包含:该基板、一感应器及一挡板至少之一。20.如请求项13之元件制造方法,包含自该障壁构件将该浸液供应至该空间。21.一种微影装置,包含:一照明系统,其配置以提供一辐射光束;一支撑结构,其配置以固定一图案化元件,该图案化元件配置以在该光束之横截面上赋予该光束一图案;一基板台,其配置以固定一基板;一投影系统,其配置以将该图案化之光束投射于该基板之一目标区上;及一液体供应系统,其配置以将一浸液提供至一在该基板与该投影系统之间的空间,该液体供应系统包含至少一提供于该空间之一边界上之浸液入口端,其中该浸液大体上并未限定在该空间中,因此浸液可流出该空间。22.如请求项21之装置,进一步包含至少一浸液出口端,该至少一浸液出口端在该至少一浸液入口端之径向外部。23.如请求项22之装置,其中该至少一浸液出口系在该基板台上。24.如请求项22之装置,其中该出口系悬于该基板台之上方。25.如请求项21之装置,其中在该障壁构件与该基板之间的一距离至少为50m。26.如请求项21之装置,其中该至少一浸液入口端与该投影系统机械隔离。27.如请求项21之装置,其中该至少一浸液入口端系连接至一支撑该基板台之底架及一支撑该投影系统之投影系统架至少之一。28.如请求项21之装置,其中该至少一浸液入口端可在该投影系统之一光轴方向上自由移动。29.如请求项21之装置,进一步包含一致动器,该致动器配置以调整该至少一浸液入口端相对于该基板之高度及倾斜度至少之一。30.一种微影装置,包含:一照明系统,其配置以提供一辐射光束;一支撑结构,其配置以固定一图案化元件,该图案化元件配置以在该光束之横截面上赋予该光束一图案;一基板台,其配置以固定一基板;一投影系统,其配置以将该图案化之光束投射于该基板之一目标区上;及一液体供应系统,其配置以将一浸液提供至一在该基板与该投影系统之间之空间,该液体供应系统包含至少一浸液入口端,其中仅在该基板台上及悬于该基板台上方至少之一方式,提供至少一浸没液体出口端。31.如请求项30之装置,其中该至少一浸液出口端在该至少一浸液入口端之径向外部。32.如请求项30之装置,其中在该至少一浸液入口端与该基板之间的一距离至少为50m。33.如请求项30之装置,其中该至少一浸液入口端与该投影系统机械隔离。34.如请求项30之装置,其中该至少一浸液入口端系连接至一支撑该基板台之底座及一支撑该投影系统之投影系统架至少之一。35.如请求项30之装置,其中该至少一浸液入口端可在该投影系统之一光轴方向上自由移动。36.如请求项30之装置,进一步包含一致动器,该致动器配置以调整该至少一浸液入口端相对于该基板之高度及倾斜度至少之一。图式简单说明:图1描绘一根据本发明之一实施例之微影装置;图2以横截面之方式说明先前技术之一液体供应系统;图3以俯视图方式描述图2之该液体供应系统;及图4说明根据本发明之一实施例之液体供应系统。 |
