发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要 本发明揭示一种微影装置及一种元件制造方法。透镜21与其支架22之间的接合处包括一无机层或一直接黏接,且因此系液密型,可防止由浸泡液体所造成的变形。该接合处可采用热或冷的方式制成。在此接合处的形成中,焊料、胶水及胶水保护均可使用。该透镜21及其支架22较佳系由石英制成。
申请公布号 TWI261150 申请公布日期 2006.09.01
申请号 TW093136018 申请日期 2004.11.23
申请人 ASML公司;卡尔塞斯(SMT)半导体制造科技公司 CARL ZEISS SMT AG 德国 发明人 包博 斯崔夫克;乔纳斯 贾库博 马塞 巴塞曼;MATHEUS;保罗 嘉宝纳;詹 哈玛;尼克丹玛斯 哈陶;克利斯汀 爱利克安德 豪根丹;ALEXANDER;爱立克 罗劳夫 罗斯崔;乔纳斯 嘉瑟琳那 哈博特司 姆肯斯;CATHARINUS HUBERTUS;伯纳德 吉尔瑞齐
分类号 G03F7/20(07) 主分类号 G03F7/20(07)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种微影装置,其包括:一照明系统,其系配置用以调节一辐射光束;一支架,其系构造用以支撑一图案化元件,该图案化元件能够赋予该辐射光束一图案化断面,用以形成一图案化的辐射光束;一基板台,其系构造用以固持一基板;以及一投影系统,其系配置用以将该图案化的辐射光束投影至该基板的一目标部份上;其特征为该投影系统之一最终元件与其支架间的该接合处包括一无机层,或系一直接黏接。2.如请求项1之微影装置,其进一步包括一液体供应系统用于使用一液体以至少部分填充该投影系统之该最终元件与该基板间的空间。3.如请求项1或2之微影装置,其中该无机层系一金属、陶瓷或玻璃层。4.如请求项1或2之微影装置,其特征为该接合处系未经加热而制成。5.如请求项4之微影装置,其中该无机层系胶水保护。6.如请求项1或2之微影装置,其中该接合处系被热处理。7.如请求项6之微影装置,其中该接合处系被热处理至900℃。8.如请求项6之微影装置,其中该接合处系由清洁表面之交互作用制成。9.如请求项6之微影装置,其中该投影系统的该最终元件及其支架系使用硼掺杂。10.如请求项6之微影装置,其中该接合处系由清洁表面之交互作用制成,采用一低温玻璃焊料密封,并被热处理至200℃与600℃之间的一温度。11.如请求项6之微影装置,其中该无机层系一金属焊料。12.如请求项11之微影装置,其中该金属焊料系铟。13.如请求项1或2之微影装置,其中该最终元件及其支架系由玻璃制成。14.如请求项13之微影装置,其中该最终元件及其支架系由熔化的矽石或一玻璃陶瓷制成。15.如请求项1或2之微影装置,其中浸泡于该液体中的该投影系统之所有部件间的该等接合处包括一无机层。16.一种元件制造方法,其包括下列步骤:-提供一基板;-使用一照明系统提供一辐射投影光束;-使用图案化构件赋予该投影光束一图案化断面;以及-将该图案化的辐射光束投影至该基板的一目标部分上,其特征为利用一无机层或直接黏接来制造该投影系统之该最终元件与其支架间的接合处。图式简单说明:图1依据本发明之一项具体实施例说明一微影装置;图2及3说明一先前技术微影投影装置中使用的一液体供应系统;图4为依据本发明之一接合处的视图;图5系图4所示接合处的详细视图;图6系本发明之一项具体实施例的详细视图;图7系依据本发明之一项具体实施例之一接合处的详细视图;图8系依据本发明之一项具体实施例之一接合处的详细视图;图9系依据本发明之另一项具体实施例之一接合处的详细视图;以及图10说明依据另一先前技术微影投影装置之一液体供应系统。
地址 荷兰