| 摘要 |
<P>Procédé de fusion et de purification du silicium. </P><P>On fond du silicium dans une quantité, comprise entre la moitié et le double de sa propre quantité d'une masse fondue de silicates chauffée électriquement par résistance à 1420 degrés C au moins et constituée par 2 à 30 % en poids d'oxyde de calcium, 5 à 35 % en poids d'oxyde de magnésium, la somme des quantités d'oxyde de calcium et d'oxyde de magnésium devant atteindre entre 15 et 38 % en poids, 0,5 à 28 % en poids d'oxyde d'aluminium et 45 à 70 % en poids d'oxyde de silicium, et on y ajoute au moins 0,29 % en poids, de préférence 0,50 à 3 % en poids, de cuivre élémentaire et/ou lié chimiquement, par rapport à la quantité de silicium.</P>
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