| 摘要 |
<P>L'invention concerne un appareil optique à faisceau corpusculaire permettant de réaliser une image à échelle réduite d'un masque sur une préparation devant être irradiée. </P><P>Un masque 4 est éclairé par l'intermédiaire d'un élément de sondage (faisceau de rayonnement 15), dévié par un système déviateur 13 et qui atteint une zone partielle B du masque, dont l'image b sur la préparation 11 est amenée dans une position déterminée, au moyen d'un système déviateur 16. Application notamment à la réalisation de modèles sur des plaquettes semi-conductrices dans la fabrication des circuits intégrés.</P>
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