发明名称 |
WERKWIJZE VOOR HET ETSEN VAN EEN SILICIUMDI- OXYDELAAG. |
摘要 |
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申请公布号 |
NL7707455(A) |
申请公布日期 |
1978.01.16 |
申请号 |
NL19770007455 |
申请日期 |
1977.07.05 |
申请人 |
HITACHI LIMITED TE TOKIO. |
发明人 |
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分类号 |
C23F4/00;H01L21/306;H01L21/311;H01L21/3115;H01L21/321;(IPC1-7):H01L21/30;H01L21/22;H01L21/26 |
主分类号 |
C23F4/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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