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发明名称 PROCEDE POUR AJUSTER UN SUBSTRAT EN FORME DE DISQUE PAR RAPPORT A UN MASQUE PHOTOSENSIBLE DANS UN APPAREIL D'EXPOSITION AU RAYONNEMENT X
摘要
申请公布号 BE857539(A1) 申请公布日期 1977.12.01
申请号 BE19770179952 申请日期 1977.08.05
申请人 SIEMENS A.G. 发明人
分类号 H05K3/00;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):H01L/ 主分类号 H05K3/00
代理机构 代理人
主权项
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