| 发明名称 |
PHOTO ETCHING METHOD |
| 摘要 |
PURPOSE:To ensure an assured etching by preventing pinhole and stage breakage of photo resist film even for micro pattern. |
| 申请公布号 |
JPS5267269(A) |
申请公布日期 |
1977.06.03 |
| 申请号 |
JP19750143469 |
申请日期 |
1975.12.01 |
| 申请人 |
TOKYO SHIBAURA ELECTRIC CO |
发明人 |
OZAWA SHIGERU |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;H01L21/302 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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