| 主权项 |
1﹒一种分离烷化方法中液体之装置,包括:一容器,其界定出一具有下部,中间部及上部之分离区以分离包含一较重液体及一较轻液体之混合物;以及一装置,其将包含较重液体及较轻液体的混合物导入该分离区以在该分离区形成一液体一液体界面,该界面发生在该较重液体与该较轻液体之间的液位,而且其中该较重液体包含在该分离区之该下部之中;其特征为其具有:一装置,其装设在该容器之中以将该分离区之该下部分成隔成多整个室,包括一从该分离区之该下部的底部向上延伸至该分离区之中间部之挡板,以包含至少该较重液体之主要部分,以使得从该多数个室之个别室排泄之该较重液体所造成之任何漏泄不会对应地造成该较重液体从该多数个室之其余未受影响的室之排泄。2﹒一种分离烷化方法中液体之装置,包括:一容器,其界定出一具有下部,中间部及上部之分离区以分离包含一较重液体及一较轻液体之混合物;以及一装置,其将包含较重液体及较轻液体的混合物导入该分离区以在该分离区形成一液体一液体界面,该界面发生在该较重液体与该较轻液体之间的液位,而且其中该较重液体包含在该分离区之该下部之中;其特征为其具有:一装置,其装设在该容器之中以将该分离区之该下部分成隔成多数个室,包括一从该分离区之该下部的底部向上延伸至接近该界面之位置之挡板,以包含至少该较重液体之主要部分,以使得从该多数个室之个别室排泄之该较重液体所造成之任何漏泄不会对应地造成该较重液体从该多数个室之其余未受影响的室之排泄。3﹒一种于烷化方法中降低在漏泄发生时从具有上部,下部及中间部之分离区之下部之液体的溢出的方法,此漏泄会使液体从该分离区之该下部溢出,此方法包括让在该分离区中之包含较重液体及较轻液体之混合物分离,其中一液体一液体界面形成在该分离区中之该较重液体及该较轻液体之间,其特征在于:藉一挡板之设置将该分离区之该下部分隔成多数个室,其中该挡板从该分离区之该下部之底部向上延伸至接近该液体一液体界面之位置,以包含至少该较重液体之大部分,以使得造成各室之该较重液体之排泄的漏泄不会造成从该多数室之剩余不受影响的室之该较重液体的排泄。4﹒一种于烷化方法降低在漏泄发生时从具有上部,下部及中间部之分离区之下部之液体的溢出的方法,此漏泄会使液体从该分离区之该下部溢出,此方法包括让在该分离区中之包含较重液体及较轻液体之混合物分离,其中液体一液体界面形成在该分离区中之该较重液体及该较轻液体之间,其特征在于:藉一挡板之设置将该分离区之该下部分隔成多数个室,其中该挡板从该分离区之该下部之底部向上延伸入该分离区之中间部,以包含至少该较重液体之大部分,以使得造成各室之该较重液体之排泄的漏泄不合造成从该多数室之剩余不受影响的室之该较重液体的排泄。5﹒一种烷化方法,其中在多数个烷化反应器中须要维持所希之液体酸触媒/液体烃产物比率之液体酸触媒之量乃包含在连接由该多数个室且一齐操作之共同沉降器容器之中,其特征在于:藉一挡板之设置将该沉降器容器之下部分隔成多数个室,其中该挡板从该分离区之该下部之底部向上延伸至接近该液体一液体界面之位置,以包含所希量之液体酸触媒如此以使得造成从多数个烷化反应器之一的液体酸触媒的排泄所造成之漏泄之量不会超过包含在该多数室之一所包含的液体酸触媒的量而且不会影响在其他多数室中任一室中之液体酸触媒之液位。6﹒一种烷化方法,其中在多数个烷化反应器中须要维持所希之液体酸触媒/液体烃产物比率之液体酸触媒之量乃包含在连接由该多数个室且一齐操作之共同沉降器容器之中,其特征在于:藉一挡板之设置将该沉降器容器之下部分隔成多数个室,其中该挡板从该分离区之该下部之底部向上延伸入该分离区之中间部,以包含所希量之液体酸触媒如此以使得造成从多数个烷化反应器之一的液体酸触媒的排泄所造成之漏泄之量不会超过包含在该多数室之一所包含的液体酸触媒的量而且不会影响在其他多数室中任一室中之液体酸触媒之液位。图示简单说明第1图是适合用来进行本发明之上升反应器,沉降器客器以及冷却器之配置的示意图。第2图是第1图之线2一2之侧视图第3图是第1图之线3一3之侧视图第4图是第1图之4一4线之剖视图 |
