| 发明名称 |
METHOD FOR FORMING CAT*SSEYE PATTERN LAYERS ON THE SURFACES OF SYNTHET IC RESIN BASES |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPS5232031(A) |
申请公布日期 |
1977.03.10 |
| 申请号 |
JP19750108658 |
申请日期 |
1975.09.08 |
| 申请人 |
MURAKAWA HIROSHI;HORIUCHI SHINGO |
发明人 |
HORIUCHI SHINGO |
| 分类号 |
B05D5/06;B44C1/20;B44D5/00 |
主分类号 |
B05D5/06 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
