| 发明名称 |
Verfahren zum Zuechten einer epitaktischen Schicht auf einem monokristallinen Substrat |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE2061134(A1) |
申请公布日期 |
1971.07.15 |
| 申请号 |
DE19702061134 |
申请日期 |
1970.12.11 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP. |
发明人 |
REGH,JOSEPH |
| 分类号 |
C30B25/18;H01L21/20;H01L21/205 |
主分类号 |
C30B25/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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