发明名称 厚膜导体形成用组成物
摘要 本发明提供一种焊料腐蚀少且未含铅之厚膜导体形成用组成物。其系由导电粉末、氧化物粉末及有机载体所构成,该氧化物粉末系使用包含SiO2–B2O3–Al2O3–CaO–Li2O系玻璃粉末及Al2O3粉末者。SiO2–B2O3–Al2O3–CaO–Li2O系玻璃粉末之组成比为:SiO2:20至60质量%、B2O3:2至25质量%、Al2O3:2至25质量%、CaO:20至50质量%及Li2O:0.1至10质量%。相对于导电粉末100质量份,SiO2–B2O3–Al2O3–CaO–Li2O系玻璃粉末系为0.1至15质量份,前述Al2O3粉末系为0.1至8质量份。
申请公布号 TW200630316 申请公布日期 2006.09.01
申请号 TW095105210 申请日期 2006.02.16
申请人 住友金属山股份有限公司 发明人 川久保胜弘;安达良典;粟洼慎吾
分类号 C04B35/628;C09D5/24;H01B1/22;H05K1/09 主分类号 C04B35/628
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本