| 发明名称 |
POSITIVE PHOTORESISTS FOR PROJECTION EXPOSURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US3666473(A) |
申请公布日期 |
1972.05.30 |
| 申请号 |
USD3666473 |
申请日期 |
1970.10.06 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP. |
发明人 |
LUCAS A. COLOM;HAROLD A. LEVINE |
| 分类号 |
G03F7/023;(IPC1-7):G03C1/52;G03C1/60 |
主分类号 |
G03F7/023 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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