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EL CUAL COMPRENDE : a) UN ELEMENTO DE SOPORTE PARA SOPORTAR EL CATODO QUE VA A SER TRATADO; b) UN ELEMENTO PARA LIBERAR, POR LO MENOS PARCIALMENTE, UN DEPOSITO DE METAL DESARROLLADO DURANTE EL PROCESO ELECTROLITICO, SOBRE UNA SUPERFICIE DE LA PLACA MADRE DEL CATODO; Y c) UN ELEMENTO PARA SOPORTAR EL DEPOSITO DE METAL LIBERADO. DICHA PLACA MADRE ESTA PROVISTA CON UN ELEMENTO PARA CREAR UNA IRREGULARIDAD EN EL DESARROLLO DEL DEPOSITO DEL METAL QUE VA A SER USADO COMO UN ELEMENTO ARTICULADO CUANDO EL DEPOSITO DE METAL ES BASCULADO HACIA LA PLACA MADRE DEL CATODO, CON EL FIN DE ROMPER EL DEPOSITO DE METAL EN DOS PIEZAS SEPARADAS, A LO LARGO DE LA IRREGULARIDAD EN EL DESARROLLO. DICHO ELEMENTO DE LA PLACA MADRE ES BASADO SOBRE LA DENSIDAD DE LA CORRIENTE ELECTRICA USADA EN EL PROCESO ELECTROLITICO SOBRE O CERCA DEL BORDE DE LA PLACA MADRE, O BASADO SOBRE LA DIFERENCIA DEL LARGO ENTRE EL CATODO Y EL ANODO RESPECTIVO EN UN PROCESO ELECTROLITICO
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