发明名称 一种用于高功率半导体的半导体结构之制作方法
摘要 一种用于高功率半导体装置之基板配置,包括一碳化矽晶圆,其中在该碳化矽晶圆之一表面上沈积有一矽层;一具有一第一矽层、一二氧化矽之中间层及一第三矽层之绝缘体上之矽结构,将其第三矽层黏结至沈积在该碳化矽晶圆上之该矽层,以形成一整体结构。将该绝缘体上矽结构之第一矽层以及二氧化矽之该中间层移除,仅仅留下第三纯矽层,其上可制造各种半导体装直。在该基板配置之一部分上将该第三矽层及沈积矽层移除,从而可在该碳化矽晶圆上制造一或多个半导体装置,而其他半导体装置可以容纳在该第三纯矽层上。
申请公布号 TW200631078 申请公布日期 2006.09.01
申请号 TW094137729 申请日期 2005.10.27
申请人 诺斯洛普葛鲁门公司 发明人 劳蓝C. 克拉克;罗勃S. 哈威;麦可E. 欧莫
分类号 H01L21/20;H01L21/762 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人 黄志扬
主权项
地址 美国