发明名称 | 垂直磁记录介质及使用该介质的磁存储设备 | ||
摘要 | 本发明的实施例提供一种垂直磁记录介质,其不仅可在中间层厚度等于或小于20nm的介质的区域获得磁记录层中晶粒间的磁隔离,而且具有优良的结晶织构,具有较低的介质噪声,优良的热稳定性和高可写性。在一个实施例中,垂直磁记录介质至少具有顺序形成在基底上的软磁性衬层(13)、第一中间层(14)、第二中间层(15)、第三中间层(16)和磁记录层(17),磁记录层(17)由铁磁性晶粒和氧化物或氮化物构成,第三中间层(16)由Ru或Ru合金构成,第二中间层(15)由面心立方晶格结构的金属或合金构成,第一中间层(14)由六方密堆结构的金属或合金构成。 | ||
申请公布号 | CN100338657C | 申请公布日期 | 2007.09.19 |
申请号 | CN200410061537.5 | 申请日期 | 2004.12.24 |
申请人 | 日立环球储存科技荷兰有限公司 | 发明人 | 中川宏之;武隈育子;平山义幸;细江让 |
分类号 | G11B5/667(2006.01) | 主分类号 | G11B5/667(2006.01) |
代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 杨林森;谷惠敏 |
主权项 | 1.一种垂直磁记录介质,具有形成在基底上的软磁性衬层、中间层和磁记录层,其中:所述磁记录层具有磁性晶粒被非磁性化合物包围的粒状结构;所述中间层具有第一中间层、第二中间层、和第三种中间层顺序层叠的结构;所述第一中间层包括具有六方密堆结构的金属或合金;所述第二中间层包括具有面心立方晶格结构的金属或合金;及所述第三中间层包括Ru或Ru合金。 | ||
地址 | 荷兰阿姆斯特丹 |