| 发明名称 |
METHOD FOR MONITORING VACUUM TREATING DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH059759(A) |
申请公布日期 |
1993.01.19 |
| 申请号 |
JP19910026530 |
申请日期 |
1991.02.20 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD;FUJITSU TOHOKU ELECTRON:KK |
发明人 |
ISHIZUKA ISATO;FUJIE NOBUO |
| 分类号 |
C23C14/54;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/52;C23F4/00;C30B25/14;C30B25/16;G05B1/03;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;H01L21/66 |
主分类号 |
C23C14/54 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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